[미디어펜=조우현 기자]SK하이닉스는 올해 시설투자를 기존 7조원에서 9.6조원으로 확대하겠다고 26일 밝혔다.

SK하이닉스는 "시장 환경 변화에 적극적으로 대응하고, 사업경쟁력 강화와 미래성장 기반 확보를 위해 해외법인을 포함한 2017년 시설투자 계획을 당초 약 7조원에서 약 9.6조원으로 변경했다"고 말했다.

이는 당초 밝힌 시설투자 규모 7조원에서 37% 늘린 수치로, 지난해 6조2천900억원에서 53% 확대된 액수다.

주요 변경 투자 항목은 '미래 성장동력 확보를 위한 신규 클린룸 건설', '기반 인프라 및 연구개발 투자', 'D램 수요의 안정적인 대응 및 3D 낸드의 캐파 확대를 위한 투자' 등이다. 

SK하이닉스는 전날 열린 올해 2분기 실적발표 컨펀러스콜에서 "올해 D램 분야 생산 규모를 전년 대비 3~5% 늘릴 예정이지만 전체적인 투자 규모가 이보다 더 커질 수 있다"고 밝힌 바 있다.