SK하이닉스가 도시바와의 협력을 확대한다.

SK하이닉스는 일본 도시바와 나노임프린트 리소그래피(Nano Imprint Lithography, NIL) 기술 공동 개발에 나선다고 19일 밝혔다.

NIL 기술은 메모리 공정이 더욱 미세화되고 있는 가운데 미세 패턴을 구현하는데 있어 적합한 차세대 리소그래피 공정기술로 평가 받고 있다. 막대한 투자가 선행돼야 하는 기존 공정기술과 비교해 경제적인 양산이 가능하다는 장점도 있다.

업계는 공정 미세화의 한계를 극복하기 위해 EUV(Extreme Ultraviolet) 활용 등 다양한 노력을 해왔으며, NIL 기술도 한계 극복을 위한 방안 중 하나로 개발돼 왔다.

양사는 이번 공동개발을 통해 차세대 공정기술인 NIL 개발의 성공 가능성을 높이고 제품 양산을 통한 기술 상용화를 확대할 수 있을 것으로 예상하고 있다. 또 제품 양산시 원가경쟁력도 향상시킬 수 있게 되는 효과도 기대하고 있다.

또한 양사의 기존 반도체 특허 상호 라이센스와 제품 공급 계약도 연장해 특허 분쟁으로 인한 사업 불확실성을 완화했으며, 안정적인 판매 기반을 유지할 수 있게 됐다.

이번 도시바와의 전방위적 협력 확대를 통해 SK하이닉스는 기술경쟁력을 더욱 강화하고 잠재적인 경영의 불확실성을 해소하게 됐다.

특히 공정 미세화의 한계에 대응하기 위한 새로운 기술을 확보할 수 있게 돼 양사가 메모리 반도체 선두 업체로의 입지를 더욱 강화할 수 있을 것으로 기대하고 있으며, 공동으로 개발 중인 차세대 제품의 개발에도 안정적으로 매진할 수 있게 됐다.

한편 도시바는 지난 3월 SK하이닉스를 상대로 제기한 약 1조1000억원 손해배상 규모의 민사소송도 취하할 예정이다. 합의금액은 2억7800만달러다.

도시바는 일본 검찰이 전 SK하이닉스의 직원인 스기다를 부정경쟁방지법 위반 혐의로 기소하자, SK하이닉스가 도시바의 정보를 활용했다며 민사소송을 제기한 바 있다. [미디어펜=김세헌 기자]