[미디어펜=조우현 기자]삼성전자가 일본에 300억 엔(약 3000억 원) 이상을 투자해 반도체 개발 거점을 신설한다고 지난 13일 일본 니혼게이자이신문(닛케이)이 보도했다.

   
▲ 삼성전자가 일본에 300억 엔(약 3000억 원) 이상을 투자해 반도체 개발 거점을 신설한다고 지난 13일 일본 니혼게이자이신문(닛케이)이 보도했다. /사진=미디어펜


보도에 따르면 삼성전자는 일본 도쿄 인근 가나가와현 요코하마시에 첨단 반도체 디바이스 연구과 관련한 거점을 만들고 일본의 소재·부품·제조장비(소부장) 업체와 공동연구에 나설 방침이다. 2025년 가동이 목표다.

닛케이는 이미 삼성전자가 일본 정부에 반도체 시설 건설에 대한 보조금 수급을 신청했으며, 대략 100억 엔(1000억 원)을 초과하는 수준을 지원받을 것이라고 예상했다.

다만 닛케이 보도와 관련해 삼성전자 측은 "아직 결정된 바 없다"며 말을 아끼는 분위기다.[미디어펜=조우현 기자] ▶다른기사보기